خبرگزاری ایمنا: یکی از شرکت های دانش بنیان مستقر در شهرک علمی و تحقیقاتی اصفهان به فناوری ايجاد پوشش‌هاي سطحي سخت با ساختارنانوکامپوزیت به روش رسوب فيزيكي بخار (PVD) دست یافت.

مجری طرح و مدیرعامل این شرکت دانش بنیان در گفتگو با ایمنا با اعلام این خبر گفت: فن آوريPVD به طور كلي شامل مجموعه تكنيك‌هايي است كه به وسيله آن‌ها با تبخير يك يا چند فلز در يك محفظه خلا و تبديل اين بخار فلزي به پلاسماي اكتيو فلزي و تركيب اين پلاسما با پلاسماي اكتيو غير فلزي ناشي از يونيزاسيون همزمان، يك لايه نازك با خواص مطلوب بر روي قطعه كار رسوب داده مي‌شود.
حسن جهدی افزود: بديهي است خواص اين لايه PVD تشكيل شده روي قطعه کار به تركيب آن و تكنيك لايه نشاني بستگي دارد که این شرکت موفق شده با کنترل نسبت عناصر فلزی تبخیر شونده و کنترل شرایط رسوب؛ به فناوری رسوب پوشش های نانوکامپوزیت TiAlN-Si۳N۴ و TiC-DLC دست یابد.
وی ادامه داد: در این فناوری از یکی از پيشرفته‌ترين روش های لايه نشاني با عنوان Cathodic Arc Deposition استفاده مي‌شود كه در آن به علت قابليت دستيابي به درصد بالاي يونيزاسيون ذرات و انرژي رسوب بالاي ذرات و به علت قابلیت تبخیر کنترل شده چند عنصر به طور همزمان؛ علاوه بر ایجاد انواع پوشش های کریستالی با ساختار مونو بلوک، امکان دست یابی به ساختار نانوکامپوزیت نیز فراهم شده است.
مدیرعامل این شرکت دانش بنیان تصریح کرد: پوشش های نانوکامپوزیت از اوایل سال ۲۰۰۰ در کشورهای پیشرفته کاربرد وسیعی در کنترل خواص سطحی قطعات کاربردی در صنایع مختلف از جمله صنایع هوافضا و انرژی هسته ای داشته اند.
جهدی در ادامه با بیان اینکه عمده فعاليت‌هاي اين شرکت دانش بنیان بر مكانيزم‌هاي مهندسي سطح متمركز شده است، اظهار کرد: در اين بين در فاز اول، اين شركت تنها با تکیه بر دانش بومی، اقدام به راه اندازي راكتور ايجاد پوشش‌هاي سطحي سخت به روش رسوب فيزيكي بخار (PVD) با فناوری آرک کاتدی نموده و با انجام فعالیت تحقیق و توسعه متعدد، موفق به ایجاد و ارایه این پوشش ها در مقیاس صنعتی شده است.
وی خاطرنشان کرد: در ادامه اين شركت قصد دارد با طراحی و تجهیز راکتور پوشش دهی، در جهت ایجاد پوشش های با سختار نانو لایه نیز گام بردارد.